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集成電路布圖設計

 

  集成電路布圖設計(layout-designs of integrated circuits)


   集成電路:


   指半導體集成電路,即以半導體材料為基片,將至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路集成在基片之中或者基片

 

之上,以執行某種電子功能的中間產品或者最終產品。


   它是微電子技術的核心,電子信息技術基礎。廣泛應用于計算機,通訊設備,家用電器等電子產品。具備集成性,整體性及工藝嚴格性。


   集成電路布圖設計:


   是指集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置,或者為制造集成電路而準備的上述三維配置


   通俗地說,它就是確定用以制造集成電路的電子元件在一個傳導材料中的幾何圖形排列和連接的布局設計。


   集成電路布圖設計的立法保護:


   集成電路布圖設計實質上是一種圖形設計,但它并非是工業品外觀設計,不能適用專利法保護。因為,從專利法的保護對象來看,針對產

 

品、方法或其改進所提出的新的技術方案要求具有創造性、新穎性和實用性。這一點對集成電路布圖設計而言往往難以做到。從專利的的取得

 

程序,專利申請審批的時間過長,成本較高,不利于技術的推廣和應用。


   集成電路布圖設計雖然在形態上是一種圖形設計,但它既不是一定思想的表達形式,也不具備藝術性,因而不在作品之列,不能采用著作

 

權法加以保護。而且集成電路布圖設計更新換代較快,若用著作權法來保護布圖設計,則會因著作權的保護期過長而不利于集成電路業的發展


   由于現有專利法、著作權法對集成電路布圖設計無法給予有效的保護,世界許多國家就通過單行立法,確認布圖設計的專有權,即給予其

 

他知識產權保護。美國是最先對布圖設計進行立法保護的國家,隨后,日本、瑞典、英國、德國等國也相繼制訂了自己的布圖設計法。


   1989年5月,世界知識產權組織通過了《關于集成電路的知識產權條約》。此外,《知識產權協定》專節規定了集成電路布圖設計問題,

 

其締約方按照上述公約的有關規定對布圖設計提供保護。


   我國的集成電路布圖設計保護相對較晚。2001年3月28日國務院通過了《集成電路布圖設計保護條例》,于2001年10月1日生效。根據《集

 

成電路布圖設計保護條例》,特制定《集成電路布圖設計保護條例實施細則》,自2001年10月1日起施行。根據《中華人民共和國集成電路科設

 

計保護條例》,制定《集成電路布圖設計行政執法辦法》,自2001年11月28日起實行。


   集成電路布圖設計專有權:


   一、集成電路布圖設計專有權的取得


   布圖設計專有權,是指通過申請注冊后,依法獲得的利用集成電路設計布圖實現布圖設計價、值得到商業利益的權利。


   (一)集成電路布圖設計權的主體


   按照我國《集成電路布圖設計保護條例》第3條的規定,中國自然人、法人或者其他組織創作的布圖設計,依照本條例享有布圖設計權;

 

外國人創作的布圖設計首先在中國境內投入商業利用的,依照本條例享有布圖設計權;外國人創作的布圖設計,其創作者所屬國同中國簽訂有

 

關布圖設計保護協議或共同參加國際條約的,依照本條例享有布圖設計權。


   (二)客體條件


   集成電路布圖設計必須具備獨創性。


   布圖設計應當是作者依靠自己的腦力勞動完成的,設計必須是突破常規的貴的設計或者即使設計者使用常規設計但通過不同的組合方式體

 

現出獨創性時,都可以獲得法律保護。


   (三)方式和程序


   目前,世界各國主要采取三種取得方式:自然取得,登記取得,使用與登記取得,大多數國家采取登記取得制。我國也采取登記制度。


   取得的程序:


   (1)申請:向國家知識產權行政部門提交申請文件;


   (2)初審;


   (3)登記并公告;


   (4)對駁回申請的復審;


   (5)登記的撤銷。


   二、集成電路布圖設計專有權的內容及其行使


   (一)集成電路布圖設計專有權的內容


   1、復制權


   實際上是重新制作含有該布圖設計的集成電路。


   2、商業利用權


   是指專有權人為商業目的而利用布圖設計或含有布圖設計的集成電路的權利。


   但是布圖設計權并不包括精神權利。


   (二)布圖設計權的行使


   1、布圖設計權的轉讓


   布圖設計權的轉讓,就是權利人將其全部權利轉讓給受 讓人所有。根據我國《集成電路布圖設計保護條例》的規定,轉讓布圖設計權的

 

,當事人應當訂立書面合同,并向國務院知識產權部門登記并公告。


   2、布圖設計權的許可


   當事人應當訂立書面合同。


   三、集成電路布圖設計權的保護


   (一)保護期限


   布圖設計權的保護期限為10年,自布圖設計登記申請之日或在世界任何地方首次投入商業使用之日計算,以較前日期為準。但是,無論是

 

否登記或投入商業利用,布圖設計自創作完成之日起15年后,不再受到保護。


   (二)侵權行為


   所謂布圖設計的侵權,是指侵犯了布圖設計人的權利,依法應當承擔的法律責任。包括侵犯布圖設計人的復制權和商業利用權。


   (三)侵權責任及制止措施


   1、侵權責任的形式


   (1)民事責任


   (2)行政責任


   2、即發侵權的制止


   四、集成電路布圖設計權的限制


   (一)合理使用或利用


   1、為個人目的的復制


   2、供教學研究而復制


   (二)反向工程


   是指對他人的部圖設計進行分析、研究然后根據這種分析評價的結果創作出新的部圖設計。(此行為不視為侵權)


   (三)權利窮竭


   是指集成電路部圖設計權人或經其授權的人,將受保護的部圖設計或含有該布圖設計或含有該布圖設計的半導體集成電路產品投入市場以

 

后,對與該布圖設計或該半導體集成電路產品有關的任何商業利用行為,不再享有權利。


   (四)善意買主


   善意買主法律給予豁免。


   (五)強制許可


 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 
 
 
 
 
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